Светочувствительные полимерные материалы

Автор(ы):Беднарж Б., Ельцов А. В., Заховал Я. и др.
18.06.2010
Год изд.:1985
Описание: Монография подготовлена учеными СССР и ЧССР. Описаны принципы создания светочувствительных полимерных материалов (фото-, электроно- и рентгенорезистов). Приведены их технические свойства и определены области применения в качестве светокопировальных слоев, в производстве полупроводниковых приборов, печатных плат, полиграфических печатных форм и т. п. Рассмотрены методы синтеза отдельных компонентов и композиций в целом. Книга предназначена научным и инженерно-техническим работникам химической, полиграфической, радиоэлектронной промышленности, специализирующимся в области органического синтеза, теоретической и прикладной фотохимии и занятым созданием новых светочувствительных материалов.
Оглавление:
Светочувствительные полимерные материалы — обложка книги.
Предисловие [6]
Введение [8]
Глава I. Физико-химические основы, приемы и процессы литографии [15]
  I.1. Формирование слоя резиста [15]
  I.2. Предэкспозиционная термообработка [21]
  I.3. Экспонирование [23]
    I.3.1. Некоторые физические пределы оптического экспонирования [25]
    I.3.2. Электронное излучение и электронная литография [33]
    I.3.3. Рентгеновская литография [39]
    I.3.4. Ионная литография [43]
    I.3.5. Смешанная литография [44]
  I.4. Светочувствительность, контрастность, разрешающая способность фоторезистов [44]
  I.5. Проявление [48]
    I.5.1. Моделирование экспонировании и проявлении [53]
  I.6. Постэкспозиционная термообработка [57]
  I.7. Травление подложки и снятие резиста [57]
  I.8. Адгезия резистов к подложке [63]
Глава II. Позитивные фоторезисты [65]
  II.1. Системы, содержащие растворимый в основаниях полимер и создающие рельеф в результате превращений светочувствительной гидрофобной добавки [66]
    II.1.1. Хинондиазидные композиции [66]
      II.1.1.1. Строение, термо- и фотопревращении нафтохиноидиазидов [67]
      II.1.1.2. Основные компоненты резистов [75]
      II.1.1.3. Модификация полимерного компонента резистов [80]
      II.1.1.4. Улучшение свойств резистного слоя [84]
    II.1.2. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с циклическим ацеталем [95]
    II.1.3. Композиции с фотоокислителем и дигидропиридином [96]
  II.2. Системы, создающие рельеф в результате превращений полимера [98]
    II.2.1. Композиции с веществом, генерирующим под действием света кислоту, и с неустойчивым полимером [98]
    II.2.2. Композиции с полимером, содержащим о-нитробензильные группы [99]
      II.2.2.1. Превращения за счет боковых цепей полимеров [99]
      II.2.2.2. Превращения за счет основных цепей полимеров [101]
      II.2.2.3. Другие превращения [103]
Глава III. Негативные фоторезисты на основе ониевых солей [105]
  III.1. Диазосоединения [105]
    III.1.1. Низкомолекулярные соли диазония [105]
    III.1.2. Диазосмолы [108]
      III.1.2.1. Двухслойные композиции, дающие негативное изображение [112]
      III.1.2.2. Однослойные композиции, дающие негативное изображение [115]
      III.1.2.3. Композиции, дающие позитивное изображение [119]
  III.2. Ониевые соли как источники кислот Льюиса или Бренстеда [123]
    III.2.1. Соли диазония [123]
    III.2.2. Соли мероцианиновых красителей [124]
    III.2.3. Ониевые соли элементов V, VI, VII групп с комплексными анионами [125]
      III.2.3.1. Пути фоторазложения [125]
      III.2.3.2. Композиции светочувствительных слоев [131]
Глава IV. Негативные азидсодержащие фоторезисты [133]
  IV.1. Фотохимические свойства арилазидов [135]
  IV.2. Олеофильные арилазиды в фоторезистах [141]
  IV.3. Водорастворимые арилазиды в фоторезистах [151]
  IV.4. Фоторезисты на основе азидополимеров [155]
Глава V. Негативные фоторезисты на основе поливинилциннаматов и других циклодимеризующихся систем [161]
  V.1. Составы на основе поливинилциннаматов [161]
  V.2. Другие циклодимеризующиеся полимерные системы [172]
Глава VI. Фоторезисты различного назначения [177]
  VI.1. Фоторезисты для коротковолнового УФ-света [177]
    VI.1.1. Позитивные фоторезисты [178]
    VI.1.2. Негативные фоторезисты [186]
  VI.2. Сухие фоторезисты [187]
  VI.3. Термостойкие фоторезисты [190]
  VI.4. Фоторезисты-диффузанты [196]
  VI.5. Системы с переносом рельефного изображения [200]
  VI.6. Светочувствительные слои для печатных форм офсета без увлажнения [205]
Глава VII. Резисты, чувствительные к электронному и рентгеновскому излучению [212]
  VII.1. Особенности распространения электронного излучения в полимерных слоях [214]
  VII.2. Структурирование и деструкция полимеров под действием ионизирующего излучения [222]
    VII.2.1. Чувствительность полимеров к ионизирующему излучению [224]
    VII.2.2. Механизмы превращения полимеров [228]
      VII.2.2.1. Диеновые полимеры [228]
      VII.2.2.2. Полимеры акриловой и метакриловой кислот и их производных [230]
      VII.2.2.3. Полиолефины, полиолефинсульфоны [233]
      VII.2.2.4. Полимеры на основе стирола и винилацетата [235]
  VII.3. Технологические разработки резистов [237]
    VII.3.1. Особенности оценки литографических параметров [237]
    VII.3.2. Электронорезисты [242]
      VII.3.2.1. Негативные резисты [243]
      VII.3.2.2. Позитивные резисты [255]
    VII.3.3. Рентгенорезисты [264]
    VII.3.4. Неорганические резисты [266]
Глава VIII. Многослойные резистные системы [268]
Приложение. Промышленные фоторезисты [279]
Литература [283]
Формат: djvu
Размер:3083433 байт
Язык:РУС
Рейтинг: 354 Рейтинг
Открыть: